Advanced Energy Industries, Inc.（納斯達克股票代碼：AEIS）是一家全球領先的高精度電源轉換、測量和控制系統供應商，總部位于美國科羅拉多州。公司成立于1981年，專注于為半導體、工業、醫療和數據中心等高科技領域提供創新的電源解決方案。在半導體設備領域，AE的射頻（RF）電源以高穩定性、精確控制和長壽命著稱，廣泛應用于刻蝕（Etch）、化學氣相沉積（CVD）等關鍵工藝環節。
AE的射頻電源為半導體刻蝕設備提供高頻率、高功率的穩定能量輸出，確保刻蝕工藝的均勻性和重復性。其產品特點包括：
頻率范圍：覆蓋主流射頻頻段（如2 MHz、13.56 MHz、27 MHz、60 MHz等）。
高功率密度：模塊化設計，支持多級并聯以滿足高功率需求。
先進控制算法：實時阻抗匹配和快速響應，適應復雜工藝變化。
可靠性：專為24/7嚴苛的半導體 fab 環境設計。
若您有任何需求和疑問，歡迎聯系我們咨詢選購。
以下是AE主要射頻電源系列及典型型號（適用于刻蝕機應用）：
1.eVerest? RF電源系統介紹
應用領域：半導體制造（如蝕刻、PVD、PECVD、ALE、ALD等）
核心功能與優勢：
高精度等離子體控制：
可配置多級脈沖（八級脈沖），支持瞬時或用戶定義的過渡時序。
高速、高精度頻率調諧（±10%范圍），提升工藝穩定性。
快速設定點響應（<200 μs）和脈沖上升/下降時間（<2 μs）。
創新技術：
PowerInsight? IoT平臺：嵌入式數據生態系統，支持實時數據收集、分析和可視化，優化故障排查與決策。
SyncTech?同步技術：智能匹配網絡和同步控制，確保系統兼容性。
關鍵規格：
輸出功率：3.5 kW 至 10 kW
頻率范圍：1 MHz 至 60 MHz
通信接口：EtherCAT?、RS-232、以太網
行業應用：
支持<2 nm沉積和蝕刻工藝，擴展工藝窗口，提升良率。
產品型號
eVerest? 旗艦RF電源系統，支持多級脈沖和高速頻率調諧。
APEX? 數字/模擬RF等離子體發生器。
Navigator? II全數字RF匹配網絡，基于模型調諧。
Paramount?/Paramount?+ 高密度/數字控制RF電源解決方案。
eVos? 可調離子能量RF電源。
NavX? 匹配網絡，支持MLP（多級脈沖）調諧和脈沖內狀態調諧。
1.
UltraVolt? 系列（高壓電源）
8A24（24 kV, 8 W）
10C24（24 kV, 10 W）
20A12-P4（12 kV, 20 W）
Excelsys? 系列（可配置電源）
X6 600W（醫療 & 工業應用）
XSL 400W（緊湊型電源）
Pinnacle? 系列（等離子體電源）
5kWh（高功率 RF 電源）
Pinnacle Plus+（增強版）
Ascent? 系列（直流電源）
APM 系列（可編程模塊化電源）
Artesyn? 系列（現屬 Advanced Energy）
CSU1000A（1U 服務器電源）
LCC1200（醫療級電源）
SureTest?（電壓與電流探頭）
STX-1（高壓探頭）
ST-5（通用型探頭）
細分型號：
型號:
Navigator NX100（1000W, 13.56MHz）
Navigator NX200（2000W, 13.56MHz/2MHz）
Navigator NX60（600W, 60MHz）
特點: 模塊化設計，支持多頻率，適用于高精度刻蝕。
型號：:
Ultra Q RG3（3000W, 13.56MHz）
Ultra Q RG5（5000W, 13.56MHz）
特點: 高功率輸出，適用于大規模晶圓刻蝕。
型號:
Pinnacle 5+（5000W, 13.56MHz）
Pinnacle 10+（10kW, 13.56MHz）
特點: 面向極高功率應用，支持脈沖射頻模式。
型號:
Cesar 1312（1200W, 13.56MHz）
Cesar 1340（4000W, 13.56MHz）
特點: 緊湊型設計，適用于空間受限的設備。
型號:
RFX 2K（2000W, 2MHz/13.56MHz）
RFX 6K（6000W, 13.56MHz）
特點: 高性價比，適用于中低功率刻蝕。
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