TRUMPF是一家全球領先的德國高科技企業，成立于1923年，總部位于斯圖加特附近的迪琴根（Ditzingen）。公司專注于工業激光技術、機床、電子設備及智能制造解決方案，產品廣泛應用于汽車、航空航天、電子、醫療等行業。TRUMPF在激光技術領域尤其突出，是全球極少數能提供極紫外（EUV）光刻機所需激光光源的供應商之一，支撐半導體制造中的先進制程（如7nm及以下芯片生產）。
TRUMPF為ASML的EUV光刻系統提供關鍵的 CO?激光等離子體（LPP）光源 技術。以下是其EUV相關核心產品與技術：
型號：TRUMPF CO?激光放大器系列
用于激發錫滴產生等離子體，生成13.5nm波長的EUV光。
高功率、高穩定性，支持ASML的NXE系列EUV光刻機。
功能：通過YAG激光器對錫滴進行預整形，確保CO?主激光高效激發等離子體。
EUV光刻系統，其激光光源技術是EUV光刻機的核心組件之一。
TRUMPF直接公開EUV激光光源的詳細型號參數（因涉及尖端技術保密）。
TRUMPF在EUV領域的激光技術主要基于高功率CO?激光系統（如30kW級激光器），具體型號可能以定制化方案為主。
更詳細的EUV技術資料需通過來提供項目詳情獲取，歡迎咨詢。
